Uploaded by Tomasz Grzela

Abstract NanoTech 2019

advertisement
Section name | Section Symbol
The microscopic insight into thermal evolution of the platinum
buffer layer on Gr/Ge(110)/Si(110) samples
Katarzyna Kwieciena , Marta Przychodniab, Norbert Przywieczerskia, Semir ElAhmarb, Wawrzyniec Kaszubc, Tymoteusz Ciukc, Wojciech
Koczorowskib,d and Tomasz Grzelab.
a
Faculty of Technical Physics, Poznan University of Technology, Piotrowo 3,
60-965 Poznań, Poland
b
Institute of Physics, Poznan University of Technology, ul. Piotrowo 3,
60-965 Poznań, Poland
c
The Łukasiewicz Research Network - ITME, ul. Wólczyńska 133, 01-919 Warsaw, Poland
d
Centre for Advanced Technologies, Adam Mickiewicz University, ul. Umultowska 89C,
61-614 Poznań, Poland
Rozwój mikroelektroniki, opartej głównie na krzemie (Si), jest mocno
ograniczony ze względu na limity wynikające z praw fizyki. W związku z tym poszukuje się
nowych materiałów, które mogłyby zastąpić Si w konkretnych zastosowaniach. Do takich
materiałów zalicza się monowarstwa atomów węgla - grafen (Gr). Gr pomimo posiadania
obiecujących właściwości fizycznych nadal nie zrewolucjonizował mikroelektroniki, a wiąże
się to z kilkoma istotnymi problemami wpływającymi na jakość warstwy Gr: metoda jego
wytwarzania (defekty powstające w wyniku przenoszenie na inne podłoże) oraz tworzenie
efektywnych i stabilnych kontaktów elektrycznych do powierzchni Gr.
Niniejsza praca przedstawia badania ewolucji termicznej cienkiej warstwy metalu (Pt,
~10 nm) na układzie Gr/Ge(110)/Si(110), w celu określenia wpływu warstw Gr na
oddziaływania zarówno z warstwą grafenową jak i półprzewodnikowym podłożem.
Docelowo analiza adsorpcji pojedynczych atomów metali, z atomową zdolnością rozdzielczą,
pozwoli na określenie oddziaływań atomowych atom metaliczny - warstwa grafenu.
Zagadnienie to jest istotne z punktu widzenia wytwarzania niskooporowych kontaktów do
warstwy grafenowej i układu grafenu/Ge a w przyszłości wierzymy, iż wyniki są będą istotne
ze względu na optymalizację procesu wytwarzania urządzeń elektronowych zawierających
grafen wytworzony na podłożu półprzewodnikowym.
Acknowledgements
The work was partially financed from the statutory funds of The Łukasiewicz Research
Network - ITME. TG and MP acknowledge the Polish Ministry of Science and Higher
Education for financial support (Project No. 06/62/SBAD/6208). SA, RC and WK
acknowledge the Polish Ministry of Science and Higher Education for financial support
(Project No. 06/62/SBAD/1922).
References
[1] Should be justified to the left.
Download
Random flashcards
State Flags

50 Cards Education

Countries of Europe

44 Cards Education

Art History

20 Cards StudyJedi

Sign language alphabet

26 Cards StudyJedi

Create flashcards