專利檢索策略 Technological Aspect 陳省三博士 10‐24‐2012

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專利檢索策略
陳省三博士
10‐24‐2012
Technological Aspect
• Technology‐Associated Information
– Patent Database & Non‐patent literatures
P t tD t b
&N
t t lit t
– Web information & Super Search
• Business Intelligence & Competitive Intelligence
•
•
•
•
Patent Map Patent Portfolio
D i A
Design Around for Possible Patent Disputes
d f P ibl P t t Di t
Scheme for Technological Innovation: e.g. TRIZ 資料來源:劉尚志,Overview of IP Management,2009年
2
1
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專利價值鏈(IP Value Chain)
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智慧財產權、產品與產業之關聯性
取得
轉換與轉化
自行開發
聯合開發
從他方取得
商品開發
新創事業
智慧財產權
佈局
專利授權
技術移轉
買賣讓與
侵權訴訟
商品化
產業化
作價投資
資料來源:財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心,「商品化、產業化與專利布局思考(五)」
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2
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發明專利(Utility Patent)
Utility 20‐year term (from filing)
y
y
(
g)
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檢索最新趨勢‐IP Vision
• 傳統的關鍵字檢索已經無法滿足先前技藝檢
索需求。
• 新檢索技術的發展尤其必要。
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檢索最新趨勢‐IP Vision
• Co‐Citation
Co Citation Patent Analysis
Patent Analysis
– Co‐Citation常用來尋找先前技藝,舉發系爭的專
利。
• Same Patent Class Analysis
– 利用專利分類系統的特性檢索有用的先前技藝。
• Same Patent Examiner Analysis
S
P t tE
i
A l i
– 利用審查官或助理審查官審查過的專利找出先前
技藝。
7
檢索最新趨勢‐IP Vision
• Three
Three Deep Patent Analysis
Deep Patent Analysis
– 利用關鍵字的變化趨勢找出先前技藝。
• Structured Patent Review
– 使用先進的檢索技巧,有系統結構化的檢索先前
技藝。
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檢索重點‐專利說明書首頁
US Patents Front Pages













Patent Number
Issue Date
Title Inventor/s
Assignee/s
Application Serial Number
Foreign Application Data
International Application Data
Classes/Subclasses
Field of Search
R f
References cited
i d
Abstract/Summary
Drawings/Claims Information
9
Kind Codes
A Granted US Patent (issued prior to Jan. 2, 2001)
A1 US Patent Application (issued on or after Jan. 2, 2001)
B1 Granted Patent (no pre‐grant publication; issued on or after Jan. 2, 2001)
INID Code
ICIREPAT:
Committee for International Cooperation in Information Retrieval among Examining
Patent Offices.
INID:
ICIREPAT Number for Identification of Data.
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INID
[50] 技術資料 Technical Information [51] 國際專利分類
[52] 本國專利分類
[54] 發明名稱
[54] 發明名稱
[56] 先前技術文件明
[57] 摘要或申請專利範圍
[58] 檢索範圍
[60] 與申請有關之法律文件
[61] 追加關係
[62] 分割關係
[63] 延續關係
[63] 延續關係
[64] 再發行關係
[65] 同申請案, 先前公開於其他國家之文件
[66] 取代關係
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檢索基本概念
找出關鍵人(例如:發明人、所有權人)。
(
)
判斷重要的研究機構。
瞭解重要專利分類的重點。
熟悉使用期刊、技術報告、專利、會議文集交互檢
索的方法。
• 瞭解免費及收費資料庫的特徵。
•
•
•
•
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Type of Patent Search
•
•
•
•
•
Documentary Search
Patentability Search
Clearance/freedom‐of‐use type Search
Infringement Search
Cancellation Search
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專利檢索的意義
1. 公開資料容易取得
2 可了解技術發展歷程
2. 可了解技術發展歷程
3. 技術內容完整
4. 舊資料及〝disclosure〞具重要參考
價值
5. 具速報性
6. 具法律作用
7. 可推演潛在市場
8. 無形資產利用與產業分析
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International Patent Classification
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國際專利分類碼 IPC
International Patent Classifications
• 1971年由Strasburg國際專利協定所制定。便於專利資料的整理、查
索及管理等運用。
目前為第八版(2006.1.1),共分八個部
共分八個部 (Section)
(Section),以英文大寫字母
以英文大寫字母
• 目前為第八版(2006.1.1)
A~H為代號,部下再分類 (Class), 由部的符號加上兩個阿拉伯數
字組合而成。
A部─人類生活需要
B部─作業、運輸
C部─化學;冶金
D部─紡織;造紙
E部─固定建築物
F部─機械工程;照明;供熱;武器;爆破
G部─物理
H部─電學
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IPC架構(1)
 五階階層結構,各階層具從屬關係
H
01
部
(Section)類
電學 (Class)
基本電氣元件
L
021/
次類
(Subclass)
半導體裝置
70
目
(group)
製造半導體裝置或元件之方法或設備
次目
(subgroup)
積體電路裝置或其零件之製造
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IPC架構(2)
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Basic Information‐IPC
版本
第一版
第二版
第三版
第四版
第五版
第六版
第七版
第八版
日期
1968年9月1日
1974年7月1日
1980年1月1日
1985年1月1日
1990年1月1日
1995年1月1日起生效
2000年1月1日起生效
2006年1月1日起生效
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Searching of Patent Information
• Text searching:
‐ Databases containing abstracts
‐ Full‐text databases • Classification‐based searching:
‐ IPC
‐ Other classifications
20
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Text Searching
• Advantages:
g
‐ Easiness to use
‐ all invention details may be retrieved • Disadvantages:
‐ Problem of synonyms ‐ Various languages
Various languages
‐ Inconsistent terminology 21
Classification‐based searching
• Advantages:
‐ Gives more complete results than text searching
‐ Independent of the language of the text
‐ Independent of the changes in terminology • Disadvantages:
‐ Complex structure of classifications ‐ Requires study of classification rules
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Searching of patent information
• Classification adds information value to patent documents
• Combination of classification‐based and text searching gives best results
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Three‐Step Retrieval Strategy
Bibliographic search
IPC + keywords
100 - 1000 documents
Abstract browsing
20 - 50 documents
Full text
study
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美國專利商標局(USPTO)
http://patft.uspto.gov/
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USPTO
• 美國專利商標局的檢索指令為各國所採用,
只有日本除外 因此學習美國檢索指令有
只有日本除外,因此學習美國檢索指令有
其必要。
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USPTO獲證及早期公開專利
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USPTO檢索指令
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USPTO檢索指令
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USPTO檢索指令
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USPTO檢索指令
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USPTO檢索指令
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USPTO檢索指令
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USPTO檢索指令
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USPTO檢索指令
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USPTO檢索指令
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USPTO檢索指令
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USPTO檢索指令
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USPTO檢索指令
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USPTO檢索指令
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日本特許廳(JPO)
PMGS
http://www5.ipdl.inpit.go.jp/pmgs1/
pmgs1/pmgs_E
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FI / F‐term
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FI / F‐term
• FI與IPC的架構也非常類似,IPC分成五階,
但FI往下細分成七階 其技術項目也比IPC
但FI往下細分成七階,其技術項目也比IPC
詳細,但其分法與ECLA不同,因此技術藍
圖不會一致。
• FI大約分成十九萬個分類,其重點在於技術
與產業的整合
與產業的整合。
• F‐term即日本的專利地圖,代表日本的產業
強項及未來可能發展的技術。
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FI
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F‐term
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JPO‐FI/F‐term
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JP‐F‐term(Patolis)
http://search.p4.patolis.co.jp/fterm_
t bl
table_en/s_f_oya.html
/ f
ht l
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JP‐F‐term(Patolis)
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JP‐F‐term(Patolis)
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JP‐F‐term(Patolis)
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FI/F‐term Search 2H191FA01
http://www4.ipdl.inpit.go.jp/Tokujitu
/tjftermena.ipdl?N0000=114
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F‐term
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歐洲專利局(EPO)
http://worldwide.espacenet.com/
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ECLA
European Patent Classification
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ECLA
• ECLA與IPC的架構非常類似,IPC只分成五階,
但ECLA再往下細分成十階 因此ECLA的技
但ECLA再往下細分成十階,因此ECLA的技
術項目會比IPC詳細。
• ECLA大約分成十三萬四千個分類,其重點
在於技術與產品的整合。
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EPO檢索畫面
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EPO分類檢索
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EPO分類檢索
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EPO檢索指令
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EPO檢索指令
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EPO檢索指令
61
EPO檢索指令
62
31
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EPO檢索指令
63
EPO檢索指令
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EPO Family List
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EPO List of Citing Documents
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EPO檢索報告
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檢索策略
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專利檢索步驟
• 1.瞭解問題並確定主題
– 閱讀現有相關文獻
– 歸納技術關鍵字
– 檢索者與資訊需求者良好溝通
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專利檢索步驟
• 2.決定並瞭解珍珠
.決定並瞭解珍珠(Pearls)
– 透過閱讀相關文獻過濾珍珠
– 藉由問題的瞭解規劃檢索策略
– 資訊需求者協助提供資訊獲取管道
– 解讀珍珠以掌握適合的檢索語言
• 專利分類號分布
• 技術關鍵字
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專利檢索步驟
• 3.擬定檢索條件並進行檢索
3 擬定檢索條件並進行檢索
– 將檢索主題分為數個概念
– 歸納可代表每個概念的檢索詞
– 尋找檢索詞之同義/上下位詞
– 將不同概念檢索詞以布林邏輯加以連結
71
專利檢索步驟
• 4.相關度判斷與比對
4 相關度判斷與比對
– 閱讀檢索結果之內容
– 判讀比對結果易受判讀者主觀影響
– 檢索者須與資訊需求者溝通確認
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專利檢索步驟
• 5.確認檢索結果並決定繼續或停止檢索
– 決定判讀結果是否符合需求
– 檢索結果是否符合視需求情況而定
– 若判讀結果不符,應重新檢討檢索條件是否適
當
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專利檢索技巧
• 適當縮小或擴大檢索範圍
– 當檢索出過多或過少的專利資料筆數時,可透過控制語言(如分類
號)及自然語言兩方面運用邏輯運算元AND縮小或OR擴大檢索範圍
• 詳細的檢索程序規劃
– 當遇到檢索瓶頸難以突破時,暫時擱置習慣的檢索方式或類型,
回歸思考層面,重新規劃檢索程序,助於提高檢索效率
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專利檢索的盲點





專利語言的特殊性
 申請專利範圍(claim)
 上位用語(擴大保護範圍)、下位用語(實施例)
 Keywords未必代表技術特徵
K
d 未必代表技術特徵
技術未有統一的名稱
 (同義字、詞性變化、單複數、拼法…)
 刻意避開Keyword的專利
商業方法之類的專利並無法完全由IPC/UPC撿索得到
資料庫的缺陷
 資料收錄的主題範圍
 資料收錄的國家範圍
 資料的收錄時間
 資料的檢索欄位
專利檢索的品質係決定於檢索資料庫的品質與完整度,以及檢索人員的
專業知識
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Patent Family Search
(專利家族檢索)
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專利家族
• EPO定義一:凡是專利文件,和其中一項優
先權有直接或間接的關係者,屬於同ㄧ家
族
族。
專利家族F1
專利文件一
專利文件二
專利文件三
專利文件四
專利文件五
優先權號碼P1
優先權號碼P1
優先權號碼P1
優先權號碼P2
優先權號碼P2
優先權號碼P2
優先權號碼P3
優先權號碼P3
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專利家族
• EPO定義二:凡是專利文件,具有至少一個
共同的優先權文件者,屬於同ㄧ家族。
專利家族F1
專利文件一 優先權號碼P1
專利文件二 優先權號碼P1
專利文件三 優先權號碼P1
專利文件四
專利文件五
專利家族F2
優先權號碼P2
優先權號碼P2
優先權號碼
優先權號碼P2
專利家族F3
優先權號碼P3
優先權號碼
優先權號碼P3
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專利家族
• EPO定義三:凡是專利文件,具有完全相同的優
先權或優先權組合者,屬於同ㄧ個專利家族。
專利文件一 優先權文件P1
專利家族F 1
專利文件二 優先權文件P1
優先權文件P2
專利家族F 1-2
專利文件三 優先權文件P1
優先權文件P2
專利家族F 1-2
專利文件四
優先權文件P2
專利文件五
優先權文件P3
專利家族F 2-3
優先權文件P3
專利家族F 3
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Patent Family –US • A patent family is the same invention disclosed by a common inventor(s) and
disclosed by a common inventor(s) and patented in more than one country. Source:http://www.uspto.gov/main/glossary/index.html
80
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OECD Patent Family
• Set of patents taken in various countries that share one or more priorities
h
i iti
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Case Study‐X‐ray 41
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X‐ray Patent Classification
IPC (International Patent Classification) may be too rough
may be too rough ECLA(European Patent Classification) is helpful
Important ECLA’s
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1. IPC‐H04S4/00
• Devices using stimulated emission or wave energy other than those covered by groups th th th
db
H01S1/00 or H01S3/00 , e.g. phonon maser, gamma maser
2. H01J35/00 IPC ‐1
• H01J35/02B
• X‐ray tubes with structurally associated circuit elements]
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2. H01J35/00 IPC‐2
• Tubes wherein the point of impact of the cathode ray on the anode or anti cathode is movable
ray on the anode or anti‐cathode is movable relative to the surface thereof H01J35/24
– by rotation of the anode or anti‐cathode H01J35/26
– by vibration, oscillation, reciprocation, or swash‐plate motion of the anode or anti‐cathode H01J35/28
– by deflection of the cathode ray H01J35/30
b d fl ti
f th
th d
H01J35/30
• [N: by using a rotating X‐ray tube in conjunction therewith]
H01J35/30 B
2. H01J35/00 IPC‐3
• H01J35/32
• Tubes wherein the X‐rays are produced at or near the end of the tube or a part thereof which tube or part has a small cross‐section to facilitate introduction into a small hole or cavityy
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3. H01J31/50 IPC
 Image‐conversion or image‐amplification tubes, i.e. having optical, X‐ray, or analogous input, and optical output H01J31/50
 [N: with an electrostatic electron optic system (H01J31/52 to H01J31/56 take precedence)] H01J31/50B  [N: with means to interrupt the beam e.g. shutter for high speed photography (circuits using electron‐beam shutters G03B27/72B)] H01J31/50B2  [N: with an electromagnetic electron‐optic system (H01J31/52 to H01J31/56 take precedence)] H01J31/50D
 [N: flat tubes, e.g. proximity focusing tubes] H01J31/50F
 [N: tubes using secondary emission effect] H01J31/50G  [N: using a large number of channels, e.g. microchannel plates] H01J31/50G2
 [N: Multistage converters] H01J31/50H 4. H05G1/00 – IPC‐1
• Constructional details H05G1/02 – Mounting the X‐ray tube within a closed housing H05G1/04 • X‐ray tube and at least part of the power supply apparatus being mounted within the same housing H05G1/06 45
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4. H05G1/00 – IPC‐2
• Electrical details H05G1/08
– Power supply arrangements for feeding the X‐ray
P
l
t f f di th X
tube [N: supply circuits with converters in general H02M ; supply circuits for emitters and amplifiers H04B1/16 to H04B1/16A4] H05G1/10 • with dc or rectified single‐phase ac [N: or double‐phase] H05G1/12
• with single‐phase low‐frequency ac [N: also when a ih i l h
l
f
[N l
h
rectifer element is in series with the X‐ray tube] H05G1/14
– Reducing the peak‐inverse voltage H05G1/16
5. H05G2/00 IPC
• Apparatus or processes specially adapted for producing X rays not involving X ray tubes e g
producing X‐rays, not involving X‐ray tubes, e.g. involving generation of a plasma (X‐ray lasers H01S4/00 ; plasma technique in general H05H) H05G2 – [N: X‐ray radiation generated from plasma (plasma for generation of electrons to be accelerated towards an
generation of electrons to be accelerated towards an anode H01J35/00)] [N0610] H05G2/00P
• [N: being produced from a liquid or gas] [N0610] H05G2/00P2
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6. H04N5/30 IPC
• Transforming light or analogous information into electric information (H04N5/222 takes
into electric information (H04N5/222 takes precedence; scanning details H04N3/00 ; light transforming elements H01J , H01L) H04N5/30
– Transforming X‐rays [N: (image transformers H01J31/00)] H04N5/32
H01J31/00)] H04N5/32
• with video transmission of fluoroscopic images [N9606] H04N5/321 – Image enhancement, e.g. by subtraction techniques using polyenergetic X‐rays [N9606] H04N5/325 7. G21K4/00 ‐ IPC
• Conversion screens for the conversion of the spatial distribution of X‐rays or particle ti l di t ib ti
fX
ti l
radiation into visible images, e.g. fluoroscopic screens (photographic processes using X‐ray intensifiers G03C5/17 ; discharge tubes comprising luminescent screens H01J1/62 ; cathode ray tubes for X‐ray conversion with optical output H01J31/50) 47
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8. G21K5/00 ‐ IPC
• Irradiation devices (discharge tubes for i di ti H01J37/00) G21K5
irradiating H01J37/00) G21K5 – having no beam‐forming means G21K5/02 – with beam‐forming means G21K5/04
– Holder for targets or for other objects to be irradiated G21K5/08 – with provision for relative movement of beam source and object to be irradiated G21K5/10 9. G03C5/16 ‐ IPC
• X‐ray, infra‐red, or ultra‐violet ray processes G03C5/16 G03C5/16
– [N: Infra‐red processes] [N9702] G03C5/16R
– using screens to intensify X‐ray images (X‐ray conversion screens G21K4/00) G03C5/17 48
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10. A61K49/00
Preparations for testing in vivo
11. A61B6/00 IPC‐1
• Mobile X‐ray equipment A61B6/00B12 • [N: Generating signals of physiological origin to [N Generating signals of physiological origin to
be used to initiate radiation (circuit arrangements for obtaining X‐ray photography at predetermined instants in the movement of an object, e.g.part of a human body, H05G1/62)] A61B6/00F
• [N: Testing of X‐ray installation, e.g. by phantoms (radio‐opaque markers A61B19/00R)] A61B6/00H 49
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11. A61B6/00 IPC‐2
• Applications or adaptations for dentistry A61B6/14
– [N: by intraoral means (X‐ray tubes having a small cross‐section to facilitate introduction into small cavities H01J35/32)] A61B6/14B
X‐ray 1
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X‐ray 2‐ECLA
Patent Classification Analysis
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Case study 1
Delphion –H05G2/00P*
1168 patents (up to 20111009)
• US20110192995A1: LPP EUV Light Source Drive Laser System (Soft X‐Ray(EUV))
– Laser produced plasma (LPP)
– extreme ultraviolet (EUV)
– Assignee:CYMER, INC
Assignee:CYMER INC
– 1443 family members
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Delphion –H05G2/00P*
Case study 2
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Delphion ‐A61B6/14B
• US7010089: Digital radiographic sensor view capture (CCD)
t
(CCD)
– Assignee:The United States of America as represented by the Secretary of the Army, – IPC Code: Advanced: A61B 6/14; H04N 3/15; H04N 5/32; H05G 1/64; Core: H05G 1/00; – ECLA Code: A61B6/14B; H04N3/15H; H04N5/32; Delphion ‐A61B6/14B
• US20100254518A1: Digital Radiography S
Sensors(DR)
(DR)
• IPC Code: Advanced: A61B 6/14; • ECLA Code:
A61B6/14B; 54
2012/10/22
Delphion ‐A61B6/14B
Thanks For Your Attention
chengss.ann@msa.hinet.net
0939‐775‐217
110
55
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